低噪聲放大器的特點是輸入端信號很小，輸出端需要放大到一個較高的幅度。由于信號很小，任何噪聲都會對整個系統(tǒng)造成很大的影響，低噪聲放大器的噪聲功率應該盡可能地小。這點非常重要，因為如果噪聲功率太大，就會淹沒掉弱信號，而使系統(tǒng)無法正常工作。

低噪聲放大器通常有很高的增益，并且設計上一般采用高質量的半導體材料和優(yōu)良的RF PCB布局和平面耦合技術。低噪聲放大器往往采用反饋電路來控制放大器的穩(wěn)定性和增益，以減少噪聲和失真。

低噪聲放大器有多種拓撲結構，包括共源極（Common Source）、共柵極（Common Gate）和共漏極（Common Drain）等。常見的材料有GaAs、InP、SiGe和CMOS等。其中，GaAs和InP是高質量的半導體材料，具有低噪聲和高增益的特點；SiGe是一種新型的半導體材料，比傳統(tǒng)的Si材料具有更高的電子遷移率和更大的截止頻率，可以用來制作高性能的低噪聲放大器。