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TiO2和Ti2O3 電磁屏蔽膜層 相機鏡頭 鍍膜 電弧離子鍍膜

鍍層金屬: 可定制(TiC/TiNC/Gr/等等)
鍍層顏色: 可定制(銀色/黑色/寶藍色/銅色/等)
鍍層厚度: 20nm~1000nm
單價: 面議
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 陜西 西安
有效期至: 長期有效
發(fā)布時間: 2023-12-15 09:41
最后更新: 2023-12-15 09:41
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詳細說明

TiO2和Ti2O3是兩種常用于電磁屏蔽膜層和相機鏡頭鍍膜的材料。它們通過電弧離子鍍膜技術被應用于各種光學器件中,為其提供優(yōu)異的電磁屏蔽性能和光學性能。


電磁屏蔽膜層在現(xiàn)代電子設備中扮演著重要的角色,它們能夠有效地阻擋外部電磁干擾,保護設備內(nèi)部元件的正常工作。TiO2和Ti2O3作為電磁屏蔽膜層的材料,具有高度的透明性和優(yōu)異的電磁屏蔽性能,能夠滿足現(xiàn)代電子設備對于光學透明度和電磁屏蔽性能的雙重需求。


相機鏡頭作為光學器件的重要組成部分,需要具備優(yōu)異的光學性能和耐用性。通過在相機鏡頭表面進行TiO2和Ti2O3的鍍膜處理,可以提高其透光率和耐磨性,增強其抗反射和防水性能,從而提升相機鏡頭的成像質量和使用壽命。


電弧離子鍍膜技術是一種先進的表面處理技術,通過在真空環(huán)境中利用電弧放電產(chǎn)生的離子束沉積材料在器件表面,實現(xiàn)對材料表面性能的調控。利用電弧離子鍍膜技術,可以在相機鏡頭等光學器件表面均勻地沉積TiO2和Ti2O3薄膜,實現(xiàn)對其光學性能和電磁屏蔽性能的**控制。


,TiO2和Ti2O3作為電磁屏蔽膜層和相機鏡頭的鍍膜材料,通過電弧離子鍍膜技術的應用,為光學器件提供了優(yōu)異的電磁屏蔽性能和光學性能,為現(xiàn)代電子設備和攝影器材的發(fā)展提供了重要支持。


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